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膜厚儀的特點(diǎn)及技術(shù)參數(shù)

        膜厚儀又稱(chēng)膜厚儀、膜厚測(cè)試儀。分為磁感應(yīng)涂層測(cè)厚儀、渦流涂層測(cè)厚儀、熒光X射線涂層測(cè)厚儀。使用磁感應(yīng)原理時(shí)，涂層的厚度是通過(guò)從探頭通過(guò)非鐵磁涂層流入鐵磁基體的磁通量的大小來(lái)測(cè)量的。也可以測(cè)量相應(yīng)磁阻的大小來(lái)表示涂層的厚度。
        可用于在線膜厚測(cè)量、氧化物、感光保護(hù)膜、半導(dǎo)體膜等。它還可用于測(cè)量涂在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料上的粗糙薄膜層。薄膜表面或界面 反射光會(huì)干擾來(lái)自基材的反射光。干涉的發(fā)生與薄膜的厚度和折射率有關(guān)，因此可以計(jì)算薄膜的厚度。光學(xué)干涉儀是一種無(wú)損、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，薄膜測(cè)量系統(tǒng)利用光學(xué)干涉原理來(lái)測(cè)量薄膜的厚度。
        膜厚儀的特點(diǎn)
        1、可測(cè)量多層膜中各層的厚度
        2、三維厚度剖面
        3、遙控及在線測(cè)量
        4、可以做大范圍150mm或300mm的掃描測(cè)試

        5、豐富的素材庫(kù)：操作軟件的素材庫(kù)有大量素材的n、k數(shù)據(jù)，基本常用素材都包含在這個(gè)素材庫(kù)中。用戶(hù)還可以輸入材料庫(kù)中沒(méi)有的材料。

         6、軟件操作簡(jiǎn)單，測(cè)量速度快：膜厚測(cè)量?jī)x操作非常簡(jiǎn)單，測(cè)量速度快： 100ms-1s。

         7、軟件具有建筑材料結(jié)構(gòu)擴(kuò)展功能，可對(duì)單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析，可進(jìn)行薄膜材料的預(yù)仿真設(shè)計(jì)。
         8、軟件具有可升級(jí)的掃描功能，對(duì)薄膜進(jìn)行二維測(cè)試，并以2D或3D形式顯示結(jié)果。軟件的其他升級(jí)功能包括在線分析軟件、遠(yuǎn)程控制模塊等。
        膜厚儀技術(shù)參數(shù)
        測(cè)厚：10nm-250um； 250nm-1100nm之間任意波長(zhǎng)可選擇，在此范圍內(nèi)也可選擇多波長(zhǎng)分析；
        波長(zhǎng)：250 -1100nm
        厚度范圍：10nm--250m
        分辨率：0,1nm
        重復(fù)性：0,3n米
        準(zhǔn)確率：<1[%] (100nm--100m)
        測(cè)試時(shí)間：100ms -- <1s
        分析層數(shù)：1-- 4
        距離光纖：1-5mm
        與光纖的距離：5mm-- 100mm
        入射角：90°
        光斑尺寸：400m